在電子半導體生產行業中
氣體供應劃分成常用氣體和特殊氣體。
常用氣體指:
N2、H2、O2、Ar、He..等。
特殊氣體指:
半導體生產環節中,比如延伸、離子注進、摻和、洗滌、遮掩膜形成過程中使用到一些化學氣體。
甲矽烷(SiH₄)
磷化氫(PH₃)
氧化亞氮(N₂O)
氨氣(NH₃)
六氟化硫(SF₆)
三氟化氮(NF₃)
四氟化碳(CF₄)
三氯化硼(BCl₃)
三氟化硼(BF₃)
氯化氫(HCL)
氯氣(Cl₂)
八氟環丁烷(C₄F₈)
六氟乙烷(C₂F₆)
硫化氫(H₂S)